KF200 현장 레이저 가스 분석기 TDLAS, 산업 배출 가스 내 CO, NH₃, HCl, O₂ 실시간 모니터링
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현장 TDLAS 가스 분석기
,실시간 모니터링 가스 분석기
,산업 배출 가스 TDLAS 분석기
KF200 레이저 가스 분석기
제품 설명
KF200 시리즈 레이저 가스 분석기는 산업 온라인 모니터링 및 지속적인 환경 배출량 측정을 위해 특별히 설계되었습니다.튜닝 가능한 다이오드 레이저 흡수 분광 (TDLAS)기술, 분석기는 매우 통합되고, 신뢰성 있고 정확한 가스 검출을 위해 컴팩트한 디자인을 갖추고 있습니다.
KF200 시리즈는 다양한 구성을 제공합니다.인시투 탐사, 바이패스, 다채널 및 디스크 장착 모델, 가스의 분석을 가능하게 합니다.O2, CO, NH3, CO2, CH4, H2O, HC, HF, 그리고 다른. 그것은 둘 다 지원매크로 레벨 및 미량 레벨의 농도 측정, 다양한 산업용 용도로 다재다능한 솔루션을 제공합니다.
기술 원칙
이 시스템은 레이저 파장을 제어된 전류와 온도로 조절하여 표적 가스 특수한 흡수 피크를 스캔합니다. 배경 가스 간섭이 제거됩니다.그리고 분석기는두 번째 하모닉 신호이 신호를 가스 확장 정보와 함께 사용하여,목표 가스의 정확한 농도계산됩니다.
기술 특성
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고용TDLAS 기술실시간, 현장 가스 분석을 위해
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특징이중 보호 탐사 설계부진 압력 정화 또는 추가 데이터 처리 장치의 필요성을 제거하고,콤팩트하고 간단하며 매우 안정적인 구조.
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사용고전력 레이저섬유 결합 없이,가혹한 산업환경에 적합합니다먼지가 많이 들어있는 경우를 포함하여
기술 사양:
가스 탐지 한계:
참고::
1)시험 조건포함 a1미터광 경로, 1 바 가스 압력,그리고300 K 가스 온도.
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High Performance Sensor KF200 Series TDLAS Laser Gas Analyzer for CO O2 NH3 CO2 CH4 H2O HC HF
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폐기물 소각 CEMS 류가스 HCl CO 배출량 지속적인 모니터링 시스템
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KF200 레이저 가스 분석기, 현장 TDLAS 분석기, CO, NH₃, HCl, O₂ 산업 배출 가스 모니터링
이미지 | 부분 # | 기술 | |
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High Performance Sensor KF200 Series TDLAS Laser Gas Analyzer for CO O2 NH3 CO2 CH4 H2O HC HF |
TDLAS industrial on-line analyzing and online environmental monitoring
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폐기물 소각 CEMS 류가스 HCl CO 배출량 지속적인 모니터링 시스템 |
Continuous Emission Monitoring System for HCl and CO in Waste Incineration Flue Gas (CEMS)
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KF200 레이저 가스 분석기, 현장 TDLAS 분석기, CO, NH₃, HCl, O₂ 산업 배출 가스 모니터링 |
The KF200 Series Laser Gas Analyzer is developed aiming at industrial on-line analyzing, and online environmental monito
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